君睿科技提供汞灯、激光管翻新等光源服务 --- Nikon 光刻机准分子激光曝光介绍

君睿科技提供汞灯、激光管翻新等光源服务

---Nikon 光刻机准分子激光曝光介绍

一、曝光光源的发展：

曝光光源发展历史上，第一个工程使用是G线光源(波长436nm)，这是一个大功率汞灯所能提供的波长。

其次是I 线（波长365nm）

目前主流是ＫｒＦ准分子激光器（波长248nm）,此波长广泛应用于130-100nm产品中。

最新ArF 波长193nm 。

二、脉冲发射与曝光剂量的控制：

准分子激光器是高输出脉冲激光器发射，是在紫外线范围内的波长。此要求，需要用到惰性气体和卤素的组合。

G线和I线可以产生连续的光，准分子激光发射光脉冲。此激光器的特点是在一个很短时间，重复发射脉冲(发光 )。从而达到提供高输出的目的。

集成曝光剂量控制的设备，既可以使用高功率汞灯作为光源，又可以使用受准分子激光器作为光源的机器。

对曝光剂量的控制，不同光源使用不同控制方法。即对于使用汞灯的设备，连续光的能量累积量控制曝光剂量；对准分子激光机，每1脉冲在单位面积的能量（剂量）控制着曝光剂量。

三、发射脉冲的平均能量：

准分子激光能量的水平会导致线宽变化，为保持均匀线宽，就必须在狭缝图像场中每一个点始终施加相同能量。在一个动态曝光中，需要平均在整个曝光区域发射几十个脉冲的能量，实现曝光能量的平均。

比如如所需剂量为40Mj/cm² , 而每个脉冲平均能量为1 Mj/cm² ，那么所需脉冲数量就是40个。此时如果发射脉冲频率为2000Hz , 那么发射40个脉冲所需时间将是40。

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